Нет, мы не станем разносчиком болезни; работаем удаленно.
Все вопросы по тлф./WhatsApp +7 909 995 08 29
ВСЕ ПРО ВЫСТАВКИ: КИТАЙ, ИНДИЯ, ОАЭ, ИРАН...
УЧАСТИЕ, ДЕЛОВЫЕ ПОЕЗДКИ НА ВЫСТАВКИ АЗИИ
Международный симпозиум по изготовлению фотошаблонов и NGL масок The 26th Symposium on Photomask and NGL Mask Technology или Photomask Japan (PMJ) 2019 пройдет с 16 по 18 апреля в Йокогаме, Япония, и объединит инженеров и исследователей из Японии, США и всего мира в области фотошаблонов, NGL масок и связанных с ними технологий..
В рамках мероприятия пройдет техническая выставка Technical Exhibition on Photomasks. Темы симпозиума: материалы и фотомаски, стадии производственного процесса и оборудование для фотомасок (процесс и оборудование для разработки, травления, очистки), инструменты и технологии для фотомасок, инструменты и технологии для метрологии, инструменты и технологии для контроля, инструменты и технологии для ремонта, технологии и инфраструктуры для EUVL маски, подготовка основы маски. В программе PMJ 2019 будут представлены специальные доклады на обозначенные темы, авторские выступления, тематические семинары.
Предыдущий симпозиум 2017 года привлек 375 участников симпозиума и 145 посетителей.